芬蘭KxS 化學監測儀赫爾納供應

芬蘭KxS 化學監測儀赫爾納供應

芬蘭KxS 化學監測儀赫爾納供應，由赫爾納德國總部直接采購，近30年進口工業品經驗，原裝產品，支持選型，為您提供一對一好的解決方案：貨期穩定，快速報價，價格優，設有8大辦事處提供相關售后服務。

公司簡介：

KxS Technologies 隨時幫助您滿足過程監控需求，在每個階段提供支持。從專家應用咨詢和選擇正確的解決方案到順利啟動和生命周期支持，我們都能滿足您的需求。

芬蘭KxS 化學監測儀產品型號：

DCM-10

芬蘭KxS 化學監測儀產品介紹：

KxS 原位折射率：半導體工廠化學監測的行業標準。在平衡整個晶圓廠分銷鏈中的半導體化學濃度測量的成本、速度和精度時，原位折射率已成為行業標準。借助KxS Technologies 的好解決方案和專業知識，體驗化學監測過程中的精度和效率。

芬蘭KxS 化學監測儀監測范圍：

KxS 半導體 DCM-10 晶圓廠化學監測儀經過專業設計，可：

? 定義傳入的清潔化學品濃度和原始 CMP 漿料密度。

? 在用于銅、鎢和層間電介質平坦化應用的膠體二氧化硅型 CMP 漿料中實現并確保H2O2 濃度和去離子水稀釋。

? 將濃度測量值與緩沖氧化物蝕刻 (BOE) 等工藝中的晶圓蝕刻速率 (ER) 相關聯。

? 優化濕法帶材旋壓工具中蝕刻后殘留物去除劑（例如 EKC265™）的鍍液壽命。

芬蘭KxS 化學監測儀監測種類：

我們的技術能夠監測各種關鍵半導體化學品，包括但不限于：過氧化氫 (H2O2)、氫氧化銨（NH3水）、稀氫氟酸（HF）、磷酸 (H3PO4)、鹽酸（HCl）、氫氧化鈉 (NaOH)、硫酸（H2SO4）、N-甲基吡咯烷酮（NMP）、四甲基氫氧化銨 (TMAH)、異丙醇 (IPA)、氫氧化鉀 (KOH)、硝酸（HNO3）、聚乙二醇 (PEG)、檸檬酸（C6H8O7）、乙酸 (CH3COOH)

芬蘭KxS 化學監測儀應用領域：

我們的半導體工廠化學監測儀非常適合各種應用，包括：

? SC-1、SC-2 的化學混合校驗

? 使用 NH3 水混合物進行硬掩模蝕刻

? 使用 50% KOH 進行硅濕法蝕刻

? 使用 H2SO4:HNO3:H3PO4 混合物進行鈦蝕刻

? 使用 HF:HNO3 混合物進行背面多晶硅蝕刻

? 使用各種混合物進行 CMP 后清潔